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    紫外線量測定裝置專利典范

    文章出處:正航儀器 責(zé)任編輯: 發(fā)表時(shí)間:2014-08-26

     
     
     
    申請(qǐng)(專利)號(hào):CN200810009691.6申請(qǐng)日:2008.02.20
    公開(公告)號(hào):CN101276821公開(公告)日:2008.10.01
    主分類號(hào):H01L27/144(2006.01)I范疇分類:
    分類號(hào):H01L27/144(2006.01)I;H01L21/84(2006.01)I;G01J1/42(2006.01)I
    優(yōu)先權(quán):2007.3.29 JP 2007-089224
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:沖電氣工業(yè)株式會(huì)社
    地址:日本東京
    國省代碼:日本;JP
    發(fā)明(設(shè)計(jì))人:三浦規(guī)之;千葉正
    國際申請(qǐng):
    國際公布:
    進(jìn)入國家日期:
    專利代理機(jī)構(gòu):北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
    代理人:黃綸偉
    分案申請(qǐng)?zhí)枺?br /> 頒證日:


    紫外線量測定裝置



    摘要:
    本發(fā)明提供一種可以將UV-A波和UV-B波這兩個(gè)波長區(qū)域的紫外線量分離檢測的紫外線感光元件。作為解決手段,該紫外線感光元件具有:形成于絕緣層上的厚度大于等于3nm且小于等于36nm的硅半導(dǎo)體層;形成于該硅半導(dǎo)體層上的橫向PN接合形式的第1光電二極管和第2光電二極管;形成于硅半導(dǎo)體層上的層間絕緣膜;形成于第1光電二極管上的層間絕緣膜上,由使UV-B波以上的波長區(qū)域的光透射的氮化硅構(gòu)成的第1濾光層;以及形成于第2光電二極管上的層間絕緣膜上,由使UV-A波以上的波長區(qū)域的光透射的氮化硅構(gòu)成的第2濾光層。
    主權(quán)項(xiàng):
    一種紫外線感光元件,其特征在于,該紫外線感光元件具有:形成于絕緣層上的厚度大于等于3nm且小于等于36nm的硅半導(dǎo)體層;形成于該硅半導(dǎo)體層上的橫向PN接合形式的第1光電二極管和第2光電二極管;形成于所述硅半導(dǎo)體層上的層間絕緣膜;形成于所述第1光電二極管上的所述層間絕緣膜上,由使UV-B波以上的波長區(qū)域的光透射的氮化硅構(gòu)成的第1濾光層;以及形成于所述第2光電二極管上的所述層間絕緣膜上,由使UV-A波以上的波長區(qū)域的光透射的氮化硅構(gòu)成的第2濾光層。http://www.dgzhenghang.cn 




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